サムスン電子、ASMLとのEUV露光装置の調達計画を大幅に削減

サムスン電子は最近、オランダのASML社とのEUVリソグラフィー装置の調達計画を大幅に削減すると発表した。次世代EUV露光装置は当初導入予定の4台から2台に削減され、規模は約1兆ウォンとなる。当初の計画では７億ユーロ（約１兆ウォン）を投じて首都圏に研究開発センターを設立し、次世代リソグラフィー装備の開発を推進する予定だったが、現在はこの計画は中断されている。