삼성전자, ASML과 EUV 리소그래피 장비 조달 계획 대폭 축소

삼성전자는 최근 네덜란드 ASML과의 EUV 리소그래피 장비 조달 계획을 대폭 줄이겠다고 발표했습니다. 당초 도입 예정이었던 차세대 EUV 리소그래피 장비는 4대에서 2대로 줄어들며, 규모도 약 1조원 수준으로 줄어든다. 당초 7억 유로(약 1조원)를 투자해 수도권에 연구개발센터를 설립하고 차세대 리소그래피 장비 개발을 추진할 계획이었으나, 현재 이 계획은 중단된 상태다.