Intelin "IDM 2.0" -strategia

Intelin "IDM 2.0" -strategia pyrkii muokkaamaan Intelin johtajuutta globaalilla puolijohdeteollisuudella teknologisen innovaation ja prosessien parantamisen avulla. Tämä strategia sisältää High NA EUV -litografiakoneiden käyttöönoton, huippuluokan sirunvalmistuslaitteiston, joka voi parantaa merkittävästi sirun suorituskykyä ja transistorin tiheyttä. Intel aikoo ottaa High NA EUV -teknologian kaupalliseen tuotantoon vuoteen 2027 mennessä ja saavuttaa nollatulon valimoliiketoiminnassaan vuoteen 2030 mennessä.