Estratégia "IDM 2.0" da Intel

A estratégia "IDM 2.0" da Intel visa reformular a liderança da Intel na indústria global de semicondutores por meio de inovação tecnológica e melhoria de processos. Essa estratégia inclui a introdução de máquinas de litografia EUV de alto NA, um equipamento de fabricação de chips de última geração que pode melhorar significativamente o desempenho do chip e a densidade do transistor. A Intel planeja colocar a tecnologia High NA EUV em produção comercial até 2027 e atingir o ponto de equilíbrio em seu negócio de fundição até 2030.