Intels "IDM 2.0"-strategi
2027
De
EUV
De
del
chip
tog
strategi
transistor
led
tæthed
rat
udstyr
anlæg
maskine
ring
halvleder
2030
industri
2024-08-07 15:10
304
Intels "IDM 2.0"-strategi har til formål at omforme Intels lederskab i den globale halvlederindustri gennem teknologisk innovation og procesforbedringer. Denne strategi omfatter introduktionen af High NA EUV litografimaskiner, et state-of-the-art chipfremstillingsudstyr, der markant kan forbedre chipydelsen og transistortætheden. Intel planlægger at sætte High NA EUV-teknologi i kommerciel produktion inden 2027 og opnå break-even i sin støberivirksomhed inden 2030.
