Intels „IDM 2.0“-Strategie

Intels „IDM 2.0“-Strategie zielt darauf ab, Intels Führungsposition in der globalen Halbleiterindustrie durch technologische Innovationen und Prozessverbesserungen neu auszugestalten. Zu dieser Strategie gehört die Einführung von High-NA-EUV-Lithographiemaschinen, einer hochmodernen Chipherstellungsanlage, die die Chipleistung und Transistordichte deutlich verbessern kann. Intel plant, die High NA EUV-Technologie bis 2027 für die kommerzielle Produktion einzusetzen und bis 2030 in seinem Gießereigeschäft die Gewinnschwelle zu erreichen.