阿斯麥計劃推出先進Hyper-NA EUV光刻機設備

根據北韓日報的報道，荷蘭光刻機製造商阿斯麥（ASML）計劃在2030年推出用於1奈米以下製程的先進Hyper-NA EUV光刻機設備。然而，預計每台設備的價格可能超過7.24億美元，這可能會使台積電、三星和英特爾等半導體晶圓代工廠商望而卻步。