Chuo Glass Jepang mengembangkan teknologi manufaktur substrat SiC baru

Chuo Glass Co., Ltd. Jepang baru-baru ini mengumumkan bahwa mereka telah berhasil mengembangkan teknologi manufaktur substrat silikon karbida (SiC) baru. Keuntungan dari teknologi baru ini adalah dapat mengurangi biaya dan meningkatkan produksi. Dibandingkan dengan metode sublimasi suhu tinggi tradisional, metode fase cair memiliki keunggulan yang jelas dalam pembuatan substrat SiC berukuran besar dan berkualitas tinggi. Penerapan teknologi baru diharapkan dapat mengurangi biaya produksi substrat lebih dari 10% sekaligus meningkatkan tingkat hasil secara signifikan. Chuo Glass Co., Ltd. dari Jepang telah memulai diskusi dengan perusahaan semikonduktor besar Eropa dan Amerika, dengan tujuan memungkinkan pelanggan mengadopsi substrat SiC yang dibuat dengan teknologi baru. Central Glass berencana untuk mulai menyediakan sampel kepada pelanggan pada awal musim panas 2024 dan mencapai komersialisasi pada tahun 2027-2028.