Samsung Electronics reduziert seine Pläne zur Beschaffung von EUV-Lithografieausrüstung mit ASML erheblich

Samsung Electronics gab vor Kurzem bekannt, dass es seine Pläne zur Beschaffung von EUV-Lithografieausrüstung beim niederländischen Unternehmen ASML deutlich reduzieren werde. Die Anzahl der ursprünglich geplanten EUV-Lithografiegeräte der nächsten Generation wird von 4 auf 2 reduziert, mit einer Größenordnung von ungefähr 1 Billion Won. Der ursprüngliche Plan sah eine Investition von 700 Millionen Euro (etwa 1 Billion Won) vor, um in der Metropolregion ein Forschungs- und Entwicklungszentrum zu errichten und die Entwicklung von Lithografiegeräten der nächsten Generation voranzutreiben. Dieser Plan wurde nun jedoch auf Eis gelegt.