Стратегията на Intel "IDM 2.0".

Стратегията на Intel "IDM 2.0" има за цел да промени лидерството на Intel в глобалната полупроводникова индустрия чрез технологични иновации и подобряване на процесите. Тази стратегия включва въвеждането на High NA EUV литографски машини, най-съвременно оборудване за производство на чипове, което може значително да подобри производителността на чиповете и плътността на транзисторите. Intel планира да пусне технологията High NA EUV в комерсиално производство до 2027 г. и да постигне рентабилност в своя леярски бизнес до 2030 г.