Η στρατηγική «IDM 2.0» της Intel

Η στρατηγική «IDM 2.0» της Intel στοχεύει στην αναμόρφωση της ηγετικής θέσης της Intel στην παγκόσμια βιομηχανία ημιαγωγών μέσω της τεχνολογικής καινοτομίας και της βελτίωσης των διαδικασιών. Αυτή η στρατηγική περιλαμβάνει την εισαγωγή μηχανών λιθογραφίας High NA EUV, ενός υπερσύγχρονου εξοπλισμού κατασκευής τσιπ που μπορεί να βελτιώσει σημαντικά την απόδοση του τσιπ και την πυκνότητα των τρανζίστορ. Η Intel σχεδιάζει να χρησιμοποιήσει την τεχνολογία High NA EUV για εμπορική παραγωγή έως το 2027 και να επιτύχει το νεκρό σημείο στις δραστηριότητές της στο χυτήριο έως το 2030.