ASML planeja lançar equipamento avançado de litografia Hyper-NA EUV

De acordo com Chosun Ilbo, o fabricante holandês de máquinas de litografia ASML planeja lançar equipamentos avançados de litografia Hyper-NA EUV para processos abaixo de 1 nanômetro em 2030. No entanto, espera-se que cada dispositivo custe mais de US$ 724 milhões, o que pode proibir fundições de semicondutores como TSMC, Samsung e Intel.