ASML plant die Einführung fortschrittlicher Hyper-NA EUV-Lithographiegeräte

Laut Chosun Ilbo plant der niederländische Lithografiemaschinenhersteller ASML, im Jahr 2030 fortschrittliche Hyper-NA-EUV-Lithografiegeräte für Prozesse unter 1 Nanometer auf den Markt zu bringen. Es wird jedoch erwartet, dass jedes Gerät mehr als 724 Millionen US-Dollar kostet, was Halbleiterhersteller wie TSMC, Samsung und Intel möglicherweise verbieten könnte.