ASML, 첨단 Hyper-NA EUV 리소그래피 장비 출시 계획
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2024-07-02 22:00
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조선일보에 따르면 네덜란드 노광기계 제조사 ASML은 2030년 1나노미터 이하 공정을 위한 첨단 Hyper-NA EUV 노광 장비를 출시할 계획이다. 그러나 각 장치의 가격은 7억 2,400만 달러 이상이 될 것으로 예상되며 이는 TSMC, 삼성, 인텔과 같은 반도체 파운드리 업체를 금지할 수 있습니다.
