ASML သည် မျိုးဆက်သစ် Hyper-NA EUV lithography စက်အတွက် နည်းပညာဆိုင်ရာ အသေးစိတ်ပုံစံကို ကြေညာခဲ့သည်။

ASML သည် လက်ရှိဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု၏အစောပိုင်းအဆင့်တွင်ရှိသော Hyper-NA EUV lithography စက်၏မျိုးဆက်သစ်နည်းပညာဆိုင်ရာအသေးစိတ်ပုံစံကိုကြေငြာခဲ့သည်။ ကုမ္ပဏီ၏နည်းပညာအရာရှိဟောင်း Martin van den Brink က Hyper-NA EUV lithography စက်သည် အလင်းရင်းမြစ်စနစ်အား မြှင့်တင်ရန်နှင့် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းဆောင်ရည်ကို တစ်နာရီလျှင် wafer 400 မှ 500 အထိ တိုးမြှင့်ရန်လိုအပ်ကြောင်း ပြောကြားခဲ့သည်။