ASML anuncia un plan tecnológico para la máquina de litografía Hyper-NA EUV de próxima generación

ASML ha anunciado el modelo técnico para una nueva generación de máquina de litografía Hyper-NA EUV, que se encuentra actualmente en las primeras etapas de desarrollo. Martin van den Brink, ex director de tecnología de la compañía, dijo que la máquina de litografía Hyper-NA EUV necesita mejorar el sistema de fuente de luz y aumentar la eficiencia de producción a 400 a 500 obleas por hora.