TSMC, 1,6 nm süreci elde etmek için çoklu pozlama yöntemleri kullanıyor

TSMC, son Ar-Ge ilerlemesinde, çoklu pozlama yöntemleri kullanarak şirketin mevcut EUV litografi makinelerinde 1,6 nm sürecini gerçekleştirme hedefine başarıyla ulaştığını ortaya çıkardı. Bu çığır açan teknoloji, yarı iletken endüstrisine daha yüksek üretim verimliliği ve daha düşük maliyetler getirecek.