ASML fornisce il primo lotto di moduli del sistema di litografia High NA EUV

Dopo dieci anni di ricerca e sviluppo, nel dicembre 2023 ASML ha consegnato ufficialmente a Intel il primo sistema di litografia EUV ad alta NA (alta apertura numerica): i primi moduli di TWINSCAN EXE:5000, che rappresentano un passo avanti nella produzione di chip all'avanguardia e un importante fare un passo.