Rapidus ojogua peteĩha máquina litografía ASML EUV omotenondéva fabricación proceso semiconductor GAA 2nm

Rapidus oikuaauka peteîha máquina litografía ASML TWINSCAN NXE:3800E ojoguáva oñeme'ê ha oñemoîma fábrica IIM-1-pe. Kóva ha’e peteĩha sistema de litografía EUV Japón-pegua ojejapo haguã hetaiterei semiconductor de punta. Ko máquina litografía ikatu ombohovái umi mba'e oñeikotevêva fabricación proceso de producción masiva primera generación Rapidus 2nm Oñembojojávo NXE:3600D yma guaréva, rendimiento oblea ojupíva 37,5%.