Introduktion til fotolitografi maskintyper og hoved ASML modeller

Typerne af litografimaskiner er hovedsageligt opdelt i I-line, KrF, ArF tørmetode, ArF nedsænkningstype og EUV. Blandt dem er EUV den mest avancerede type. ASMLs hovedmodeller inkluderer: I-line XP 400/450-serien, svarende til processen på 300~500nm KrF's XT860/1060, svarende til processen på 180~130nm ArF-tørproces XT1400/1460/1700, svarende til procesknudepunktet 13; Omkring 0~65nm; ArF nedsænket XT1900- og NXT-serier, inklusive NXT1950/1965/1970/1980 og NXT2000/2050/2100, svarer til processer under 45nm. Hovedmodellen af ​​EUV er NXE3400/3600, hvilket svarer til under 7nm.