Foro de Tecnología ha Mercado Photomask ha Photoresist 2024-pe oñemotenondéta Suzhou-pe pya'eterei

Ára 27 jasyporundy ary 2024-pe, Suzhou-pe oñemotenondéta peteî aty oñe'êva fotomáscara ha tecnología fotoresist rehe. Ko foro omotenonde ASIACHEM Consulting ha oguerúta participación heta empresa tendota, experto técnico, karai arandu ha analista industria industria semiconductora-pe. Orekóta hikuái peteî ñomongeta pypuku rol clave orekóva fotomáscara ha fotoresist cadena mundial industria semiconductor, ha okomparti tendencia desarrollo industria ipyahúva ha avance tecnológico.