Weimai Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. заклала аснову для праекта паўправадніковых фоталітаграфічных матэрыялаў высокага класа магутнасцю 100 тон у год.

26 сакавіка кампанія Weimai Core Materials (Hefei) Semiconductor Co., Ltd. правяла цырымонію закладкі першага каменя для праекта паўправадніковых фоталітаграфічных матэрыялаў высокага класа магутнасцю 100 тон у год у зоне высокіх тэхналогій Хэфэй Сіньчжань. Пасля ўводу праекта ў эксплуатацыю гэта дапаможа рэалізаваць мясцовыя пастаўкі асноўных матэрыялаў фотарэзістаў і акажа важны ўплыў на стабільнае развіццё рэгіянальнай індустрыі інтэгральных схем.