Intel osoittaa aggressiivista asennetta 2 nm:n prosessikilpailussa

Intel on osoittanut aggressiivista asennetta 2 nm:n prosessikilpailussa. Se ei vain ottanut johtoasemaa ASML:n High NA EUV -litografiakoneen hankinnassa, vaan aikoo myös ottaa käyttöön innovatiivisen takapuolen virtalähdeteknologian. Nämä aloitteet auttavat Inteliä saamaan johtavan aseman 2 nanometrin prosessien alalla ja edistävät edelleen IDM2.0-strategiansa toteuttamista.