Hantian Tiancheng befejezte a 8 hüvelykes szilícium-karbid epitaxiális technológia fejlesztését

A Hantian Tiancheng Electronic Technology (Xiamen) Co., Ltd. bejelentette, hogy K+F csapata befejezte egy 8 hüvelykes szilícium-karbid epitaxiális eljárás műszaki fejlesztését független szellemi tulajdonjogokkal, és rendelkezik a hazai 8 hüvelykes szilícium-karbid tömeggyártási kapacitásával. epitaxiális ostyák. A Hantian Tiancheng által gyártott 8 hüvelykes szilícium-karbid epitaxiális ostyák a műszaki mutatók tekintetében jól teljesítenek, és a 2 mm*2 mm-es szerszámkihozatal meghaladja a 98%-ot.